Automatisierte 3D-Oberflächenmessung eines Silizium-Wafers durch präzise Polytec Profilometer in der Halbleitertechnik.

Elektronik, Halbleiter und Solar

Nanostufen auflösen, Qualitätskontrolle an Kontakten, Koplanarität von IC-Pins oder Verformung von Leiterplatten prüfen, Biegung/ Spannung an Wafern oder die Rauheit nach dem Polieren messen, Defekte oder Poren lokalisieren, Schichten messen und Formtoleranz von MEMS und Nanostrukturen auswerten – mit TopMap Weißlichtinterferometern.

Oberflächenmesstechnik für Halbleiter und Elektronik

Während Halbleiterbauelemente immer kleiner und die Verpackungstechnologien immer komplexer werden, benötigen Prozesse der Halbleiterherstellung berührungslose Oberflächenmesstechnik mit Nanometer-Genauigkeit. Die TopMap Weißlichtinterferometer (WLI) ermöglicht schnelle, hochpräzise 3D-Messungen von Oberflächen ohne das Risiko von Kollisionen oder Beschädigungen der Mikro-und Nanostrukturen.

TopMap-Profilometer bieten Messlösungen für Wafer, MEMS, Advanced Packaging und Elektronik, wo sie eine zuverlässige Qualitätskontrolle, Prozessoptimierung und Fehleranalyse ermöglichen durch schnelle und verlässliche Messungen der 3D-Topografie, Stufenhöhe, Rauheit, Ebenheit, Durchbiegung und Verformung sowie Dicke mit Nanometerauflösung.

TopMap white.light interferometers resolve roughness and finish of polished smooth wafers in sub-nm range, while inspecting lateral form or flatness with nanometer precision.

Halbleiter & Elektronik Anwendungen für TopMap Profilometer

  • Messung von Siliziumwafern: Wafer-Ebenheit, Charakterisierung von Wölbung und Verformung sowie Oberflächenwelligkeit einschließlich Oberflächenrauheit nach dem CMP-Prozess.
  • Prüfung chemisch-mechanisch polierter Wafer (CMP) hinsichtlich resultierender Stufenhöhe, Defekterkenung und Kratzer-Auswertung, sowie Oberflächenrauheit nach dem Polieren.
  • Prüfung von Mikro- und Lötbumps hinsichtlich Bump-Höhe, Koplanarität und Rundheit.
  • Verformungen an MEMS oder Mikroelektronik, Ebenheit von Mikrospiegeln, Oberflächenrauheit und Tiefe geätzter Strukturen.
  • Überprüfung der Durchkontaktierungen (TSV, VIA) Auswertung des VIA Durchmessers, Messungen an vertieften Bereichen oder der Oberflächenebenheit um VIAs herum.
Smooth semicon wafer surface measured by a white-light interferometer, looking for roughness or defectfs, warpage or flatness
Glatte Waferoberfläche mit Weißlichtinterferometer aufgenommen, zB zur Rauheitsmessung, Defekterkennung oder Auswertung der Ebenheit/ Durchbiegung
Gold wafer Ra and Sa measurements, comparing line-based and areal wafer roughness
Ra- und Sa-Messungen an einem Goldwafer: Vergleich zwischen linienbasierter und flächenbezogener Waferrauheit
3D form measurement with 10x magnification of a MEMS pressure sensor
3D-Formmessung mit 10-facher Vergrößerung eines MEMS-Drucksensors 
Measure 3D form and topography on micro-electronics, printed elctronics with nanometer resolution
Messung von 3D-Formen und Topografie in der Mikroelektronik und gedruckten Elektronik mit Nanometerauflösung
Coplanitary / hieghts of solder bumps and Ball Grid Array tips
Koplanarität / Höhe von Lötperlen und Ball-Grid-Array-Spitzen
warpage & bow measurements on electronics, printed electronics, BGA, PGA
Messungen von Verformungen und Durchbiegungen bei Elektronikbauteilen, gedruckter Elektronik, BGA und PGA

Besprechen Sie Ihre Anforderungen mit unseren Experten

Gerne erfahren wir mehr über Ihre Bauteile, Toleranzen und Herausforderungen. Basierend darauf können wir Empfehlungen zu Technologien und Systemen geben. Oder wir zeigen Ihnen in einer kurzen Demo, wie einfach und effizient Messungen mit dem passenden Polytec Profilometer durchgeführt werden – entweder an unseren Komponenten oder direkt an Ihrem Bauteil.

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Weißlicht-Interferometrie als Messtechnik für Halbleiter und Elektronik

Die Weißlicht-Interferometrie verbindet eine außergewöhnliche vertikale Auflösung mit schnellen, berührungslosen Messungen. Geführte Arbeitsabläufe in der Sherpa-Software tragen zur Automatisierung und Beschleunigung der Verfahren bei, während die hohe Wiederholgenauigkeit und die validen Messergebnisse den Taktzeiten und Anforderungen eines höheren Durchsatzes gerecht werden. Im Vergleich zu taktilen Profilometern oder herkömmlichen optischen Mikroskopen liefern die TopMap-Weißlicht-Interferometer mehr Erkenntnisse in kürzerer Zeit.

Commercial airplane landing gear and engines aligned with runway centerline on a cloudy day
Warum Weißlicht-Interferometer die bevorzugte Lösung in der Halbleitermesstechnik sind
Überragende vertikale Auflösung im sub-nm Bereich repräsentiert die reale 3D-Topografie und Mikrostrukturen wieder
Misst alles von matt und dunkel bis gänzend, poliert und spiegelglatte Wafer, auch mit wechselnder Reflektiivtät
Hohe Messgeschwindigkeit und hervorragende Wiederholgenauigkeit ideal für automatisierte Prozesse und Qualitätskontrolle in der Linie

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