3D-Visualisierung von vertikalen Interconnect-Zugängen (VIAs) mit Farbkodierung zur Oberflächen- und Tiefenmessung in Halbleiterbauelementen.

Vertikaler Interconnect-Zugang (VIA)

Optische 3D-Oberflächenmesstechnik zur präzisen Prüfung Charakterisierung von Durchkontaktierungen in Mikro- und Halbleitertechnologien.

Charakterisierung vertikaler Verbindungsleitungen (VIAs)

Vertikale Interconnect-Zugänge (VIAs) sind zentrale Strukturelemente moderner Mikro- und Halbleiterbauelemente. Sie ermöglichen die vertikale elektrische Verbindung zwischen unterschiedlichen Schichten und sind insbesondere bei hochdichten integrierten Schaltungen, MEMS und Advanced Packaging unverzichtbar.

Solche VIAs weisen häufig Strukturen mit sehr hohen Aspektverhältnissen auf und stellen damit besondere Anforderungen an die Messtechnik. Bereits geringe Abweichungen in Tiefe, Form oder Positionierung können die elektrische Funktion, Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität von Bauteilen beeinträchtigen.

Optische 3D-Messverfahren ermöglichen die vollständige, zerstörungsfreie Erfassung relevanter VIA-Parameter. Dazu zählen Ätztiefen, Stufenhöhen, Durchmesser, Abstände sowie die Analyse von Oberflächenrauheit und Formabweichungen – selbst bei komplexen und dicht gepackten Strukturen.

Weitere Applikation und Messaufgaben in Mikrotechnik und Nanotechnologie

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