確保晶片實驗室裝置的功能性
微流體晶片實驗室系統（簡稱LoC）能在極微小的空間內實現多種過程。 晶片實驗室技術使液體分析得以在緊湊晶片上完成，適用於生物、化學或物理過程的製程分析與線上診斷。此類裝置利用毛細管力輸送極微量流體，輸送量範圍涵蓋數皮升（pL）至微升（mL）。
透過非接觸式測量技術（如TopMap 三維表面測量系統），可精準檢測晶片實驗室的微流體通道尺寸精度，高精度評估LoC通道深度與寬度，並測定晶片實驗室裝置的整體體積及表面平整度。
實驗室級晶片生產的品質與製程控制
研發服務專家 哈恩-席卡德 運用微系統技術，從概念到製造全程開發智慧產品。該機構攜手產業夥伴，在感測器技術、物聯網（IoT）智慧嵌入式系統、人工智慧（AI）、晶片實驗室（LoC）與分析技術，以及電化學能源系統等領域實現創新產品與技術。
在結核病檢測的微流體晶片設計中，生產製程面臨的挑戰之一是精確匹配密封工具與卡匣的高度。若高度過低，密封力不足導致卡匣無法緊密貼合；若高度過高，則會產生壓力噴濺，熔融物可能堵塞精密微通道。
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將密封薄膜應用於實驗室級晶片載體的卡匣具挑戰性：首先，需在黏合過程中達成高密封強度，同時避免封閉卡匣的微細通道。 其次，射出成型厚度存在生產公差，雖無法完全消除，但必須在密封過程中予以補償。為精確調整密封工具，我們運用掃描白光干涉儀測量微流控載體的高度層級。這些三維測量數據將成為設計密封工具的基礎依據。
晶片實驗室關鍵參數：階高、通道深度與平整度
憑藉寬廣視野（FoV）與高垂直解析度，TopMap 光學轮廓仪可透過單次測量直接檢測微流體晶片通道深度，並對整個晶片實驗室進行幾何檢測，僅需數秒即可生成數百萬個數據點。 白光干涉儀的遠心光學設計呈現平行光路徑，可捕捉晶片實驗室裝置的通道底部，避免陰影效應導致測量數據出現盲點。TopMap 系列的轮廓仪顯微鏡專注於檢測微系統或結構細節、粗糙度評估等應用。 在保持Z軸解析度不變的前提下，TopMap 光學轮廓仪可透過簡單更換鏡頭，快速輕鬆地調整橫向解析度以適應不同的測量任務。
配合面轮廓仪
微型分析儀
Micro.View systems are optimized for ultra-high-resolution measurements in the sub-nanometer range. With focused optics and high vertical resolution they enable detailed analysis of microstructures, surface finish and material distribution where even the smallest deviations matter.
巨觀分析器
Pro.Surf systems enable fast, area-based 3D topography measurements with telecentric optics. They support reliable inspection of flatness, shape, parallelism and step heights across wide fields of view and in-bore features.
Metro.Lab
Metro.Lab是一款紧凑型广域表面轮廓仪。它将卓越的测量性能与小巧的占地面积完美结合，特别适用于空间或预算受限但仍需可靠3D表面数据的应用场景。
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