確保晶片實驗室裝置的功能性
微流體晶片實驗室系統（簡稱LoC）能在極微小的空間內實現多種過程。 晶片實驗室技術使液體分析得以在緊湊晶片上完成，適用於生物、化學或物理過程的製程分析與線上診斷。此類裝置利用毛細管力輸送極微量流體，輸送量範圍涵蓋數皮升（pL）至微升（mL）。
透過非接觸式測量技術（如TopMap 三維表面測量系統），可精準檢測晶片實驗室的微流體通道尺寸精度，高精度評估LoC通道深度與寬度，並測定晶片實驗室裝置的整體體積及表面平整度。
實驗室級晶片生產的品質與製程控制
研發服務專家 哈恩-席卡德 運用微系統技術，從概念到製造全程開發智慧產品。該機構攜手產業夥伴，在感測器技術、物聯網（IoT）智慧嵌入式系統、人工智慧（AI）、晶片實驗室（LoC）與分析技術，以及電化學能源系統等領域實現創新產品與技術。
在結核病檢測的微流體晶片設計中，生產製程面臨的挑戰之一是精確匹配密封工具與卡匣的高度。若高度過低，密封力不足導致卡匣無法緊密貼合；若高度過高，則會產生壓力噴濺，熔融物可能堵塞精密微通道。
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將密封薄膜應用於實驗室級晶片載體的卡匣具挑戰性：首先，需在黏合過程中達成高密封強度，同時避免封閉卡匣的微細通道。 其次，射出成型厚度存在生產公差，雖無法完全消除，但必須在密封過程中予以補償。為精確調整密封工具，我們運用掃描白光干涉儀測量微流控載體的高度層級。這些三維測量數據將成為設計密封工具的基礎依據。
晶片實驗室關鍵參數：階高、通道深度與平整度
憑藉寬廣視野（FoV）與高垂直解析度，TopMap 光學轮廓仪可透過單次測量直接檢測微流體晶片通道深度，並對整個晶片實驗室進行幾何檢測，僅需數秒即可生成數百萬個數據點。 白光干涉儀的遠心光學設計呈現平行光路徑，可捕捉晶片實驗室裝置的通道底部，避免陰影效應導致測量數據出現盲點。TopMap 系列的轮廓仪顯微鏡專注於檢測微系統或結構細節、粗糙度評估等應用。 在保持Z軸解析度不變的前提下，TopMap 光學轮廓仪可透過簡單更換鏡頭，快速輕鬆地調整橫向解析度以適應不同的測量任務。
配合面轮廓仪
微型分析儀
Micro.View systems are optimized for ultra-high-resolution measurements in the sub-nanometer range. With focused optics and high vertical resolution they enable detailed analysis of microstructures, surface finish and material distribution where even the smallest deviations matter.
巨觀分析器
Pro.Surf凭借其区域地形扫描技术，能更快地确定形状与平整度。其大Z轴范围的同轴光学系统可探测孔洞与凹陷表面，最大视场与真实拼接功能轻松应对大型样品及多样品测量。升级至Pro.Surf+，更可实现粗糙度分析一体化操作。
Metro.Lab
Metro.Lab是一款紧凑型广域表面轮廓仪。它将卓越的测量性能与小巧的占地面积完美结合，特别适用于空间或预算受限但仍需可靠3D表面数据的应用场景。
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