挑战与现状
HUBER+SUHNER 生产的高精度微光学元件体积微小、高反射率且名义上平整——这种特性组合将传统光学显微镜推向了极限，使得标准工具难以准确捕捉这些元件的真实表面几何形状。为了保障客户所信赖的产品质量，HUBER+SUHNER 需要一种能够可靠地测定这些高难度元件形状和高度的测量方法。
解决方案：采用白光干涉测量法，结合Micro.View
HUBER+SUHNER 在Polytec Micro.View 上采用白光干涉测量技术，对这些组件进行非接触式表征。一个由压电驱动的测量头进行垂直扫描，并在每个高度步长处捕获干涉图样。软件根据这些切片重建表面，并将高度信息转换为彩色编码的地形图，其分辨率可达几百纳米——这一精度足以揭示显微镜无法察觉的划痕和真实的表面细节。
结果
借助Micro.View 上的非接触式白光干涉测量技术，HUBER+SUHNER能够快速获得高分辨率的3D部件视图，而这些部件原本因尺寸过小、表面过平或反射率过高，无法通过传统方法进行测量。这体现了该公司对最高质量的承诺，可提供可靠的表面和几何数据，从而在微光学生产中实现可靠的质量控制并加深对工艺的理解。
HUBER+SUHNER 解读 WLI 的优势
表面计量入门指南
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