Effizientes Testen von MEMS auf Wafer-Ebene

Um die Produktionskosten für MEMS bei gleichzeitig hoher Ausbeute und Qualität niedrig zu halten, bewährt sich immer mehr die Prüfung auf Wafer-Level bereits vor dem Vereinzeln der Chips. Standard dabei sind elektrische Testverfahren, bestimmte Aufgaben erfordern allerdings eine direkte, zumeist optische Messung der mechanischen Funktion.

Die Polytec Messtechnik können Sie hierfür problemlos in nahezu alle kommerziell erhältlichen Wafer-Prober integrieren. Die Kombination aus (halb-)automatischer Probe Station mit einem mikroskopbasierten Scanning-Laservibrometer wie dem Polytec Micro System Analyzer ermöglicht Ihnen eine rationelle und schnelle Messung des dynamischen Verhaltens von MEMS direkt auf dem Wafer. So erzielen Sie einen hohen Durchsatz und haben ein wichtiges Werkzeug, um den Produktionsprozess zu überwachen.

Time-Domain beim Schaltverhalten von RF-Switches

Die monolithische Integration von RF-MEMS in einer SiGe-BiCMOS-Technologie ermöglicht die Entwicklung kostengünstiger und hochintegrierter Schaltkreise für zukünftige Radar- und Imaging-Systeme. Durch den Einsatz von Laser-DopplerVibrometrie (LDV) und Weißlichtinterferometrie (WLI) wurden RF-MEMS-Schalter mit ausgezeichneter Performance und Zuverlässigkeit entwickelt.

MEMS Dynamik optisch auf Wafer-Level charakterisieren

Während elektrische Tests die Funktionalität überprüfen, sind innovative optische Messverfahren unerlässlich, um auch die zugrundeliegenden physikalischen Eigenschaften von MEMS zu charakterisieren, wo elektrische Tests an Grenzen stoßen. Mehr über die Charakterisierung der MEMS-Dynamik und Mikrosystemtests auf Wafer-Ebene lesen Sie im umfangreichen Paper.

Microstructure characterization

Ihr PolyXpert für Vibrometrie