Optische Systeme
- Optische Systeme
-
Produkte
-
Halbleiter- & Schicht-Charakterisierungs-Systeme
-
Waferdicken-Messsystem
Optische Waferdicken-Messsysteme
Per Weißlicht-Interferometer präziser messen
Die „Optical Wafer Thickness Gauge“ basieren auf dem Weißlicht-Interferometer-Prinzip und messen die Dicke von Wafern und anderen transparenten Materialien.
- Geeignet für Wafer bis zu 150 mm Durchmesser
- Schichtdickenbereich: 50 µm bis 2 mm
- Messgrößen: Dicke, Bow, Warp, TTV, LTV, mechanische Spannung
- Keine Kalibration notwendig
- Hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit
- High-Speed Messungen
Dokumente
- Schichtdickenbereich; 50 µm bis 2 mm (eine 10 mm Variante ist erhältlich)
- Keine Kalibration notwendig
- Multikanal (1, 2, 4, …)
- Auch als InLine-Version erhältlich
- Kontaktfreies Messverfahren
- Hohe Genauigkeit und Widerholbarkeit
Dokumente
