Sintersystem für das Sintern von Silber-, Kupfer und anderer Tinten, das Härten von Dünnfilmsubstraten und die Oberflächenbehandlung in Halbleiter- und Photovoltaik-Anwendungen. Die Netzteile sind in einem 19“ Rack untergebracht. Zum System gehören Netzteile und Kühlung.

Die Pulsbreiten sind in 5 Mikrosekunden-Abständen einstellbar im Bereich zwischen 100 und 2000 Mikrosekunden.

Die Pulsenergie kann zwischen 150 und 2000 Joule/Puls eingestellt werden.

Optische Wirkfläche: 1,9 x 30,5 cm

• Spiral: Aktive Fläche ist ca. 7,6 x 7,6 cm
  Die optionale Kammer LC-915 erlaubt das sichere Arbeiten mit der Spirallampe

• Linear: Aktive Fläche ist ca. 1,9 x 30,5 cm
  In Kombination mit dem Lineartisch LS-845 vergrößert sich die Fläche auf 30,5 x 30,5 cm

Tisch mit linearem Antrieb für den Benchtop-Einsatz.
Für das sichere Arbeiten wird das Licht der linearen Lampe wird vom Anwender abgeschirmt. Der lineare Antrieb bietet drei Betriebsmodi, statisch, kontinuierlich und getriggert. Die für den Prozess wesentlichen Parameter wie Pulsenergie, Pulsdauer, Vorschubgeschwindigkeit sind einfach einstellbar. In Kombination mit dem Sinteron 500 oder 2000 können hiermit auf einfache Weise die notwendigen Prozessparameter ermittelt und damit geeignete Verfahrensvorschriften erstellt werden.